2018年 第79回 応用物理学会秋季学術講演会で当研究室から3件の発表を行います。
◾日程:2018年9月18(火)~21(金)
◾場所:名古屋国際会議場
◾発表題目
「励起子型量子アニーリング手法の開発と量子ドット発光 解析への応用」
袴田 紘斗1 , 曽我部 東馬1, 2, 山口 浩一1, 2 1.電通大基盤理工学専攻, 2.電気通信大学i-PERC
「面内超高密度InAs量子ドット層を導入した量子ドット太 陽電池の集光特性」
(M2)鈴木 亮介1 , 坂本 克好1 , 曽我部 東馬1 , 山口 浩一1 1.電通大 基盤理工
「分子線堆積法によるSiOx/半導体上へのInAs量子ドット の自己形成(2) 」
馬飼野 彰宜1 , 坂本 克好1 , 曽我部 東馬1 , 山口 浩 一1 1.電通大 基盤理工
詳細はこちら https://meeting.jsap.or.jp/